三靶磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2010年7月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:三靶磁控濺射鍍膜機
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2010年7月1日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
壓強、功率。
主要功能
矽基薄膜材料。
三靶磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2010年7月1日啟用。
三靶磁控濺射鍍膜機 三靶磁控濺射鍍膜機是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2010年7月1日啟用。技術指標 壓強、功率。主要功能 矽基薄膜材料。
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北京市太陽能研究所有限公司也開展耐候性塗層真空鍍膜生產技術的研究。研製了不鏽鋼氮化物和不鏽鋼碳化物的金屬陶瓷選擇性吸收塗層,為實現該膜層的生產,研製了一台三靶磁控濺射真空鍍膜機並成功的進行了中試。通過小批量試生產製備出合格產品...