多功能真空鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年12月16日啟用。
基本介紹
- 中文名:多功能真空鍍膜系統
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2011年12月16日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備
多功能真空鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年12月16日啟用。
多功能真空鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年12月16日啟用。技術指標技術指標:該系統有兩個真空腔室,採用機械手送樣,換樣時不破壞主真空室真空;配置3個2英寸強磁靶槍和1個熱蒸發源,可實現磁控濺射...
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發,電子槍加熱蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。簡介 需要鍍膜的被稱為基片...
KyKy多功能真空離子鍍膜機是一種用於工程與技術科學基礎學科、測繪科學技術領域的分析儀器,於2005年11月14日啟用。技術指標 鐘罩尺寸:內徑Φ250mm×高度340mm 玻璃處理室:內徑Φ88mm×高度140mm 內徑:Φ88mm×高度57mm 試樣台尺寸:...
高真空共濺射鍍膜系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2011年11月15日啟用。技術指標 系統極限真空:(12 小時內)濺射室極限真空度5×10-7torr;共濺射靶數與尺寸:3個×3英寸;2英寸晶片內膜後均勻度±5%。主要功能 半導體...
超高真空磁控與離子束濺射聯合鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2016年11月28日啟用。技術指標 包含有3個互相連線的獨立真空腔體,分別用於進樣、磁控濺射薄膜生長、以及離子束濺射薄膜生長。樣品可以在真空環境下在3個腔體...
三、多功能鍍膜機 設備基本配置:真空室 工件轉動系統 真空抽氣系統 工作氣體供氣系統 濺射系統:平面濺射/柱狀濺射/中頻濺射/射頻濺射系統 動系統 控制系統 冷卻系統 技術指標:真空室尺寸:φ600×800 φ850×1000 φ1000×1200 φ...
高真空磁控濺射鍍膜系統 高真空磁控濺射鍍膜系統是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2015年12月14日啟用。技術指標 子系統一:工裝和卡具。主要功能 鍍制各種功能性薄膜光電薄膜,半導體薄膜,硬質膜等。
高真空平面靶磁控濺射鍍膜系統是一種用於化學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年1月30日啟用。技術指標 (1) 樣品台採用PLC電路控制,樣品台可以水平移動的同時還可以自轉,水平運動速度為10-50 mm/分往復運動,連續可調;自轉的...
多功能多元有機無機複合薄膜鍍膜系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2009年11月28日啟用。技術指標 腔體尺寸450mm*450mm,極限真空度達到5.0E-7Pa,真空漏率12小時高於5Pa。主要功能 該儀器能夠製備金屬、氧化物和各種介質、...
多功能PVD硬質塗層鍍膜系統 多功能PVD硬質塗層鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2014年12月17日啟用。技術指標 真 空 度:≤1×10-3 pa 工作電流:60-100A。主要功能 金屬表面PVD塗層製備。
高真空蒸發鍍膜系統 高真空蒸發鍍膜系統是一種用於信息科學與系統科學領域的工藝試驗儀器,於2015年10月10日啟用。技術指標 有機小分子與金屬分為兩個蒸發腔體。主要功能 蒸發電子器件功能薄膜。
高真空雙電子槍蒸發鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2018年7月4日啟用。技術指標 真空室尺寸500mm*500mm*700mm;真空系統,主泵為brooks cti 1500L/s冷凝泵。主要功能 用於高真空下多種材料的蒸發鍍膜。