高真空雙電子槍蒸發鍍膜系統

高真空雙電子槍蒸發鍍膜系統

高真空雙電子槍蒸發鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2018年7月4日啟用。

基本介紹

  • 中文名:高真空雙電子槍蒸發鍍膜系統
  • 產地:中國
  • 學科領域:材料科學
  • 啟用日期:2018年7月4日
  • 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備
技術指標,主要功能,

技術指標

真空室尺寸500mm*500mm*700mm;真空系統,主泵為brooks cti 1500L/s冷凝泵。

主要功能

用於高真空下多種材料的蒸發鍍膜。

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