高真空磁控濺射鍍膜系統是一種用於材料科學領域的科學儀器，於2015年12月14日啟用。
基本介紹
- 中文名：高真空磁控濺射鍍膜系統
- 產地：中國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2015年12月14日
技術指標,主要功能,
技術指標
子系統一：工裝和卡具。
主要功能
鍍制各種功能性薄膜光電薄膜，半導體薄膜，硬質膜等。
高真空磁控濺射鍍膜系統
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