高真空磁控濺射系統

高真空磁控濺射系統是一種用於電子與通信技術領域的計量儀器，於2010年10月12日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空磁控濺射系統
• 產地：中國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2010年10月12日
• 所屬類別：計量儀器 > 聲學計量儀器 > 氣導聽力零級基準裝置

技術指標

濺射極限真空≤5E-6Pa;系統漏率：5E-7Pa.l/S。

主要功能

製備各種薄膜材料。