高真空濺射系統是一種用於材料科學、物理學領域的工藝試驗儀器，於2011年11月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：高真空濺射系統
- 產地：英國
- 學科領域：材料科學、物理學
- 啟用日期：2011年11月1日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
高低多靶槍，樣品旋轉，成膜均勻。
主要功能
多靶槍工作成膜均勻。
高真空濺射系統
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