多功能濺射沉積高真空系統

多功能濺射沉積高真空系統是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器，於2009年11月16日啟用。

基本介紹

• 中文名：多功能濺射沉積高真空系統
• 產地：中國
• 學科領域：工程與技術科學基礎學科
• 啟用日期：2009年11月16日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備

技術指標

本地真空5.0e-4Pa。

主要功能

進行氧化物薄膜濺射沉積。