磁控濺射鍍膜系統是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2016年06月29日啟用。
基本介紹
- 中文名：磁控濺射鍍膜系統
- 產地：中國
- 學科領域：電子與通信技術
- 啟用日期：2016年06月29日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
超高真空1E-6Pa，四寸濺射靶材，可以共同濺射。
主要功能
可以濺射Al、Ti、PdAu的金屬薄膜。
磁控濺射鍍膜系統
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