多靶磁控濺射鍍膜系統

多靶磁控濺射鍍膜系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2014年7月2日啟用。

基本介紹

• 中文名：多靶磁控濺射鍍膜系統
• 產地：美國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2014年7月2日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備

技術指標

直徑6英寸基片，片內均勻性優於±5%，重複性優於±3%。

主要功能

濺射沉積各種金屬和介質。