三室多靶磁控濺射系統

三室多靶磁控濺射系統是一種用於物理學領域的分析儀器，於2017年12月11日啟用。

基本介紹

• 中文名：三室多靶磁控濺射系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2017年12月11日
• 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 雷射共焦顯微鏡

技術指標

四靶室與八靶室真空都優於4*10-6Pa。 樣品室極限真空達到6*10-5Pa。

主要功能

薄膜樣品製備。