雙室四靶材磁控濺射鍍膜系統

雙室四靶材磁控濺射鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2019年3月19日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙室四靶材磁控濺射鍍膜系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2019年3月19日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

MSP-3220。

主要功能

用於在真空條件下生長金屬氧化物和氮化物等新一代半導體材料薄膜。