全自動磁控濺射鍍膜機系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2014年10月14日啟用。
基本介紹
- 中文名：全自動磁控濺射鍍膜機系統
- 產地：中國
- 學科領域：物理學
- 啟用日期：2014年10月14日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
1、真空泵源：分子泵一台（抽速1200升/秒），直聯旋片式真空泵一台（抽速9升/秒），乾式真空泵一台（抽速8升/秒）；2、真空閥門：CCQ-200型電磁氣動插板閥一個，高真空電磁氣動隔斷閥3個，壓差閥2個，其他閥門若干；3、恆壓系統：薄膜規一個（進口 INFICON）,200mm可調節蝶閥一個，控制器一個；4、真空測量：數顯複合真空計一台；5、功率源：射頻電源PF1000W一套，直流電源DC1000（1000W）一台；6、氣路系統：二台質量流量計控制3路進氣；7、濺射靶槍及數量：60mm靶4個；8、膜厚測量儀：SQM160一套。
主要功能
濺射室內的樣品基座可旋轉，可夾持基片尺寸最大4英寸，基片可加熱最高溫度650攝氏度；進樣室配備電漿清洗模組，不單獨配備電源，與濺射的射頻電源共享。預留離子束清洗模組接口，以便以後升級使用；從樣品放入進樣室起，至樣品傳遞完畢，濺射室真空度達到6.6*10的負4次方帕所需時間不超過5分鐘。氦氣測漏，系統漏率低於5*10的-10次方l/sec torr。
