高磁控濺射鍍膜機

高磁控濺射鍍膜機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2012年07月09日啟用。

基本介紹

• 中文名：高磁控濺射鍍膜機
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2012年07月09日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備

技術指標

主體內部尺寸Φ460mm�H1300mm，真空度好於2�10-4Pa，安裝鍺靶和鉍靶尺寸約為60mm�1100mm，鍍膜有效區位900mm。

主要功能

專為引力常數G的測量以及等效原理的實驗檢驗等課題中所需的高Q值石英絲鍍鍺和鉍膜。