超高真空磁控濺射鍍膜設備是一種用於材料科學領域的科學儀器，於2010年6月25日啟用。
基本介紹
- 中文名：超高真空磁控濺射鍍膜設備
- 產地：中國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2010年6月25日
技術指標,主要功能,
技術指標
＜10負六次方 七靶。
主要功能
楔形樣品製備 加熱400°。
超高真空磁控濺射鍍膜設備
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