超高真空磁控濺射與離子束濺射鍍膜設備

超高真空磁控濺射與離子束濺射鍍膜設備是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2006年11月30日啟用。

基本介紹

• 中文名：超高真空磁控濺射與離子束濺射鍍膜設備
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2006年11月30日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

背底真空6×10-5Pa，樣品加熱溫度650℃。

主要功能

可實現多靶共濺射，可生長梯度材料。