磁控濺射離子鍍裝置

磁控濺射離子鍍裝置是一種用於材料科學領域的科學儀器，於2016年1月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：磁控濺射離子鍍裝置
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2016年1月1日

技術指標

（1）真空腔室極限真空度：8.5×10-6Torr；（2）真空系統允許最大外漏率：≤2.0×10-1Torr（在真空腔室壓強4.0×10-5Torr時關閉高真空閥一小時測得）；（3）從冷態常壓抽至工作真空度4.0×10-5Torr所需時間≤60min。

主要功能

用於調幅周期小於20nm的精密膜系開發。