《真空鍍膜技術與設備（第2版）》是2021年冶金工業出版社出版的圖書。
基本介紹
- 書名：真空鍍膜技術與設備（第2版）
- 作者：張以忱
- 出版社：冶金工業出版社
- 出版時間：2021年8月23日
- ISBN：9787502488802
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
本書共分10章，系統闡述了各種真空鍍膜技術的基本概念、工作原理和套用，真空鍍膜機的結構、設計計算，蒸發源，磁控靶的設計計算，薄膜厚度的測量技術，薄膜與表面分析檢測技術；書中還介紹了近年來出現的新型薄膜材料石墨烯的製備方法和套用等方面的內容。
圖書目錄
1 真空蒸發鍍膜
1.1 概述
1.2 真空蒸發鍍膜基礎理論
1.3 蒸發源
2 真空濺射鍍膜
2.1 濺射鍍膜原理
2.2 濺射與沉積成膜
2.3 濺射鍍膜方法
2.4 直流二極濺射
2.5 磁控濺射
2.6 射頻（RF）濺射
2.7 非平衡磁控濺射
2.8 反應磁控濺射
2.9 中頻交流反應磁控濺射
2.10 非對稱脈衝濺射
2.11 離子束濺射
3 真空離子鍍膜
3.1 離子鍍的類型
3.2 真空離子鍍原理及成膜條件
3.3 電漿在離子鍍膜過程中的作用
3.4 離子鍍中基片負偏壓的影響
3.5 離子鍍的離化率
3.6 離子鍍膜工藝及其參數選擇
3.7 離子鍍的特點及套用
3.8 直流二極型離子鍍裝置
3.9 射頻放電離子鍍裝置
3.10 空心陰極離子鍍
3.11 真空陰極電弧離子鍍
3.12 磁控濺射離子鍍
4 真空等離子增強化學氣相沉積技術
4.1 概述
4.2 電漿增強CVD（PECVD）技術
4.3 直流電漿化學氣相沉積
4.4 射頻電漿化學氣相沉積
4.5 微波電漿CVD沉積（MPCVD）
4.6 雷射化學氣相沉積（LCVD）
4.7 金屬有機化合物CVD沉積（MOCVD）
5 離子注入與離子輔助沉積技術
5.1 離子注入概述
5.2 離子注入設備
5.3 強束流離子源
5.4 離子注入表面改性機理
5.5 離子注入技術的特點
5.6 離子注入摻雜
5.7 離子束輔助沉積技術
6 石墨烯薄膜的製備及其套用
6.1 概述
6.2 CVD法製備石墨烯薄膜
6.3 石墨烯的表征
6.4 石墨烯的套用
6.5 石墨烯的發展前景
7 真空鍍膜機結構設計
7.1 真空鍍膜機設計概述
7.2 真空鍍膜室設計
7.3 鍍膜室升降機構的設計
7.4 鍍膜室工件架的設計
7.5 真空鍍膜機的加熱與測溫裝置
7.6 真空鍍膜機的擋板機構
7.7 真空鍍膜機抽氣系統的設計
8 鍍膜源的設計計算
8.1 蒸發源的設計計算
8.2 磁控濺射靶的設計
9 薄膜厚度的測量與監控
9.1 光學測量方法
9.2 機械測量方法
9.3 電學測量方法
10 表面與薄膜分析檢測技術
10.1 概述
10.2 表面與薄膜分析方法分類
10.3 表面與薄膜的力學性能表征
10.4 表面與薄膜的組織形貌及晶體結構分析
10.5 表面與薄膜的成分表征方法
