《真空鍍膜原理與技術》是2014年2月科學出版社出版的圖書，作者是 方應翠。
《真空鍍膜原理與技術》是2014年2月科學出版社出版的圖書，作者是 方應翠。內容簡介 本書闡述了真空鍍膜的套用，以及真空鍍膜薄膜在基體表面生長的過程，探討了薄膜生長的影響因素。具體介紹了真空鍍膜的各種方法，包括真空蒸發鍍、真空濺射...
真空蒸發(Vacuum Evaporation) 鍍膜是在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發物質，使之升華，蒸發粒子流直接射向基片，並在基片上沉積形成固態薄膜，或加熱蒸發鍍膜材料的真空鍍膜方法。物理過程由物料蒸發輸運到基片沉積成膜，其物理過程為： 採用...
3.晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題，具體見下。主要分類 主要分類有兩個大種類： 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠...
“離子鍍”就是近十幾年來發展起來的一種最新的真空鍍膜技術。簡介 離子鍍在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離，並在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下，將蒸發物質或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子...
2．4 特殊蒸鍍技術 2．4．1 閃蒸蒸鍍法 2：4．2 多蒸發源蒸鍍法 2．4．3 反應蒸鍍法 2．4．4 三溫度蒸鍍法 3 真空濺射鍍膜 3．1 濺射鍍膜原理 3．1．1 濺射現象 3．1．2 濺射機理 3．2 濺射沉積成膜 3．2．1 ...
《真空鍍膜技術與設備（第2版）》是2021年冶金工業出版社出版的圖書。內容簡介 本書共分10章，系統闡述了各種真空鍍膜技術的基本概念、工作原理和套用，真空鍍膜機的結構、設計計算，蒸發源，磁控靶的設計計算，薄膜厚度的測量技術，薄膜...
3.1真空蒸發鍍膜技術64 3.1.1真空蒸發鍍膜原理及蒸鍍條件64 3.1.2薄膜材料70 3.1.3合金膜的蒸鍍77 3.1.4化合物膜的蒸鍍78 3.1.5影響真空蒸鍍性能的因素80 3.2分子束外延技術81 3.2.1分子束外延生長的基本原理與過程...
二、真空鍍鋁薄膜的特點1 三、真空鍍鋁薄膜的基本性能2 四、真空鍍鋁薄膜的原理2 五、真空鍍膜的種類4 六、真空蒸發鍍膜基材6 七、真空鍍鋁薄膜的生產工藝7 八、真空鍍膜過程的均勻性7 第二節綠色鋁型材保護膜與鍍膜技術9 一、綠色...
41真空蒸發鍍膜技術 411真空蒸發鍍膜原理及蒸鍍條件 412薄膜材料 413合金膜的蒸鍍 414化合物膜的蒸鍍 415影響真空蒸鍍性能的因素 42分子束外延技術 421分子束外延生長的基本原理與過程 42...
《光學真空鍍膜技術》是2022年機械工業出版社出版的圖書。內容簡介 近些年，隨著手機、汽車、安防監控等光學鏡頭終端市場的規模化、持續性擴張，對光學薄膜的需求也越來越多，光學真空鍍膜技能型人才供不應求的局面日益凸顯。本書以弱化理論...
除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對某波長增反射、對另一波長增透射的特殊膜，如雷射倍頻技術中的分光膜等。光學鍍膜基本原理 光的干涉在薄膜光學中廣泛套用。光學薄膜技術的普遍方法是藉助真空濺射的方式在玻璃基板上塗鍍薄膜，一般用來...
這種技術是玻璃膜技術中的最尖端技術，是由航天工業、兵器工業、和核工業三個方面相結合的頂尖技術的民用化，民用主要是通過這種技術達到節能、環保等作用。原理 濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產生的電漿在電場的作用下，對...
同年，MOLEY和SMITH將空心陰極技術套用於鍍膜。20世紀八十年代，國內又相繼出現了多弧離子鍍及電弧放電高真空離子鍍，至此離子鍍達到工業套用水平。原理 離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子...
本書是本著突出近代真空鍍膜技術進步，注重系統性、強調實用性而編著的。全書共11章，內容包涵了真空鍍膜中物理基礎，各種蒸發源與濺射靶的設計、特點、使用要求，各種真空鍍膜方法以及薄膜的測量與監控，真空鍍膜工藝對環境的要求等。
離子鍍膜 離子鍍膜基本原理是在真空條件下，採用某種電漿電離技術，使鍍料原子部分電離成離子，同時產生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積於基體表面形成薄膜。離子鍍膜藉助於惰性氣體輝光...
玻璃窗膜的發展歷史與其原材料和工藝設備的發展歷史是密不可分的，特別是真空蒸鍍鍍膜技術的發展歷史。美國在20世紀60年開始研製以聚乙烯為基材的玻璃窗膜（茶紙），當時建築使用的大多是普通浮法玻璃，由門窗玻璃造成的能耗占樓宇整體的...
主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面以及靶源表面，從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻...
