現代航空工業中使用的鍍膜辦法種類很多,比如電鍍、噴鍍、化學鍍、擴散度以及軋壓、包鍍等。其中不少鍍膜工藝已為人們掌握,並在生產中發揮了顯著作用。但是,已有的鍍膜工藝跟不上產品日新月異的發展,從而促使人們探索新的鍍膜技術。“離子鍍”就是近十幾年來發展起來的一種最新的真空鍍膜技術。
基本介紹
- 中文名:離子鍍
- 外文名:ion plating
- 性質:真空鍍膜技術
- 運用:航空及航宇工業
- 包括:磁控濺射離子鍍、反應離子鍍等
現代航空工業中使用的鍍膜辦法種類很多,比如電鍍、噴鍍、化學鍍、擴散度以及軋壓、包鍍等。其中不少鍍膜工藝已為人們掌握,並在生產中發揮了顯著作用。但是,已有的鍍膜工藝跟不上產品日新月異的發展,從而促使人們探索新的鍍膜技術。“離子鍍”就是近十幾年來發展起來的一種最新的真空鍍膜技術。
現代航空工業中使用的鍍膜辦法種類很多,比如電鍍、噴鍍、化學鍍、擴散度以及軋壓、包鍍等。其中不少鍍膜工藝已為人們掌握,並在生產中發揮了顯著作用。但是,已有的...
離子鍍膜加工包括濺射鍍膜和離子鍍兩種方式。離子濺射鍍膜是基於離子濺射效應的一種鍍膜方式,適用於合金膜和化合物膜的鍍制。...
真空離子電鍍適用ABS料、PC料的產品等,主要包括真空蒸鍍濺射鍍和離子鍍幾種類型。...... 真空離子電鍍適用ABS料、PC料的產品等,主要包括真空蒸鍍濺射鍍和離子鍍幾...
離子鍍是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化,在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物或其反應物沉積在基底上。它兼具蒸發鍍的沉積...
多弧離子鍍是採用電弧放電的方法,在固體的陰極靶材上直接蒸發金屬,蒸發物是從陰極弧光輝點放出的陰極物質的離子,從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。...
離子鍍法鍍膜法是將真空鍍膜的蒸發工藝與濺射法的濺射工藝相結合的一種新工藝,即蒸發後的氣體在輝光放電中,在碰撞和電子撞擊的反應中形成離子,在電場中被加速,...
真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型,它們都是採用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常...
《多弧離子鍍技術與套用》是2007年冶金工業出版社出版的圖書,作者是張鈞,趙彥輝。...... 《多弧離子鍍技術與套用》是2007年冶金工業出版社出版的圖書,作者是張鈞...
定義 利用陰陽極間的輝光放電產生離子,通過基底上所加的負電壓對離子加速的離子鍍技術。 套用學科 (),(),材料合成、製備與加工(三級學科),薄膜製備技術(四級學科...
活性反應離子鍍原理和設備結構簡單。圖一為活性反應離子鍍膜機結構示意圖。活性反應離子鍍工藝過程,工件經清洗入爐後抽真空。當真空度達到6x10-3Pa後,開啟烘烤加熱...
常見的塑膠產品電鍍工藝有兩種:水電鍍和真空離子鍍。真空離子鍍,又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法是一種比較流行的做法,做出來的產品金屬感強,亮度高.而相對其他的鍍膜...
中文名稱 活性反應離子鍍 英文名稱 activated reactive evaporation;ARE 定義 利用電子束蒸發並通過活化極活化的反應離子鍍。 套用學科 機械工程(一級學科),表面...
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。...
熱絲陰極離子鍍技術和空心陰極離子鍍技術一樣,屬於熱電子弧光放電類型離子鍍技術。在真空室頂上安裝熱絲弧槍,熱絲陰極槍中安裝鈕絲,接弧電源負極。真空室底部安裝...
化學鍍是一種新型的金屬表面處理技術,該技術以其工藝簡便、節能、環保日益受到人們的關注。化學鍍使用範圍很廣,鍍金層均勻、裝飾性好。在防護性能方面,能提高產品的...
離子密度-脈衝真空放電離子密度的測量,由於採用脈衝放電沉積技術能夠克服連續電弧離子鍍沉積時產生的液滴及負偏壓放電的缺點,特別是它在鍍制類金剛石薄膜中顯示出來的...
內容介紹 《多弧離子鍍沉積過程的計算機模擬》系統介紹了多弧離子鍍沉積過程的計算機模擬。全書共分13章,主要內容包括:緒論;真空鍍膜技術的介紹;多弧離子鍍沉積過程...
《多弧離子鍍Ti-Al-Zr-Cr-N系複合硬質膜》是2013年冶金工業出版社出版的圖書,作者是趙時璐。...
真空離子鍍金瓷器,包含瓷質基體和鍍金層,其特徵在於:該鍍金層是真空離子鍍金層;在該瓷質基體和真空離子鍍金層之間依次設定有真空離子鍍鈦層和真空離子鍍氮化鈦層...
離子束加工的原理和電子束加工基本類似,也是在真空條件下,將離子源產生的離子束經過加速聚焦,使之撞擊到工件表面。離子束的加工裝置主要由包括離子源、真空系統、...
6.易清洗。電離子鍍膜具有超強的自潔性和撥水性,不易沾附灰塵、污澤,清洗時只用清水即可達到清洗的效果,使車輛保持高清潔度和光澤度。7.超持久強大的韌性和延伸...
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)技術表示在真空條件下,採用物理方法,將材料源——固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子,並通過低壓氣體(...