離子鍍法鍍膜

離子鍍法鍍膜法是將真空鍍膜的蒸發工藝與濺射法的濺射工藝相結合的一種新工藝，即蒸發後的氣體在輝光放電中，在碰撞和電子撞擊的反應中形成離子，在電場中被加速，而後在玻璃板上凝結成膜。該法的優點有:複雜形狀待鍍材料有相對均勻的鍍層,膜與玻璃表層有極強的附著力,高的鍍膜率,膜的密度高,玻璃被加熱。

離子濺射鍍膜是在部分真空的濺射室中輝光放電，產生正的氣體離子;在陰極(靶)和陽極(試樣)間電壓的加速作用下，荷正電的離子轟擊陰極表面，使陰極表面材料原子化;形成的中性原子，從各個方向濺出，射落到試樣的表面，於是在試樣表面上形成一層均勻的薄膜。所以說這種形成干涉膜的方法與湃澎霍夫蒸發的方法相似。由於陰極表面被擊出的材料主要是中性原子，如果離子碰撞的能量是低的，即在低的加速電壓下，擊出的原子數目是相當少的，可忽略不計;在高能離子的撞擊下，即加速電壓超過500V，實際上每個離子能從靶材表面擊出一個原子。從靶材表面濺出原子的速度，主要決定於靶材、加速電壓，氣壓和氣氛的性質。