真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
基本介紹
- 中文名:真空電鍍
- 外文名:vacuum plating
- 類別:電鍍
- 特點:真空
真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
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《真空鍍膜技術》是張以忱編寫,冶金工業出版社出版的一本書籍。該書具有很強的實用性,適合於真空鍍膜行業、薄膜與表面套用、材料工程、套用物理以及與真空鍍膜技術...
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