用化學反應的方法可以在光學零件表面產生或沉積光學薄膜。在光學零件上化學鍍膜主要有酸蝕法鍍增透膜、水解沉積法鍍增透膜和分光膜及還原法鍍銀(增反膜)。
基本介紹
- 中文名:化學鍍膜
- 外文名:Electroless plating
- 鍍膜位置:光學零件表面
- 主要方法:酸蝕法、水解沉積法等
- 套用:鍍鎳、鉻、鈷、鋅等
用化學反應的方法可以在光學零件表面產生或沉積光學薄膜。在光學零件上化學鍍膜主要有酸蝕法鍍增透膜、水解沉積法鍍增透膜和分光膜及還原法鍍銀(增反膜)。
用化學反應的方法可以在光學零件表面產生或沉積光學薄膜。在光學零件上化學鍍膜主要有酸蝕法鍍增透膜、水解沉積法鍍增透膜和分光膜及還原法鍍銀(增反膜)。...
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PCVD沉積饋膜過程主要包括“電漿物理”和“電漿化學”兩個方面的內容:電漿物理是指低壓氣體輝光放電過程;電漿化學是指不均勻的氣固表面發生的多相...
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