| 中文名稱 | 活性反應離子鍍 |
| 英文名稱 | activated reactive evaporation;ARE |
| 定 義 | 利用電子束蒸發並通過活化極活化的反應離子鍍。 |
| 套用學科 | 機械工程（一級學科），表面工程（二級學科），氣相沉積（三級學科） |
| 中文名稱 | 活性反應離子鍍 |
| 英文名稱 | activated reactive evaporation;ARE |
| 定 義 | 利用電子束蒸發並通過活化極活化的反應離子鍍。 |
| 套用學科 | 機械工程（一級學科），表面工程（二級學科），氣相沉積（三級學科） |
活性反應離子鍍原理和設備結構簡單。圖一為活性反應離子鍍膜機結構示意圖。活性反應離子鍍工藝過程,工件經清洗入爐後抽真空。當真空度達到6x10-3Pa後,開啟烘烤加熱...
中文名稱 活性反應離子鍍 英文名稱 activated reactive evaporation;ARE 定義 利用電子束蒸發並通過活化極活化的反應離子鍍。 套用學科 機械工程(一級學科),表面...
反應蒸鍍法就是將活性氣體導入真空室,使活性氣體的原子、分子和蒸發的金屬原子、低價化合物分子在基體表面沉積過程中發生反應,形成化合物或高價化合物薄膜。反應蒸...
PVD基本方法:真空蒸發、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。[1] 中文名 物理氣相沉積 ...
離子鍍技術最早在1963年由D.M.Mattox提出,1972年,Bunshah &Juntz推出活性反應蒸發離子鍍(AREIP),沉積TiN,TiC等超硬膜,1972年Moley&Smith發展完善了空心熱陰極...
PVD基本方法:濺射 \離子鍍\真空蒸發(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、直流放電離子鍍、射頻離子鍍) 鈦金又叫太空金屬。具有未來的特質...