《薄膜光學與真空鍍膜技術》是2013年哈爾濱工業大學出版社出版的圖書，作者是王治樂。
基本介紹
- 書名：薄膜光學與真空鍍膜技術
- 作者：王治樂
- 出版社：哈爾濱工業大學出版社
- 出版時間：2013年6月1日
- 頁數：268 頁
- 開本：16 開
- ISBN：9787560336961
- 外文名：Thin-film Optics&vacuum Coationg Technology
- 類型：科學與自然
- 語種：簡體中文
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
《薄膜光學與真空鍍膜技術》比較全面地介紹了光學薄膜的理論基礎與真空製備工藝，內容包括光學薄膜的波動理論基礎、膜系特性計算與設計方法、常用膜系（減反射膜系、反射膜系、截止濾光片與帶通濾光片）的性能特點、薄膜在真空狀態下的物理氣相沉積技術、物理氣相沉積薄膜的結構與特點、光學薄膜的性能測試方法等。
圖書目錄
上 篇
第1章緒論
1.1薄膜光學概述
1.2電磁理論基礎
第2章光學薄膜特性計算
2.1遞推法
2.2矢量法
2.3矩陣法
2.4非均勻介質膜特性計算
第3章光學薄膜的普遍定理
3.1透射定理
3.2普遍等效定理
3.3對稱膜等效定理
3.4周期性多層膜理論
3.5誘導透射定理
第4章膜系設計方法
4.1 圖解法
4.2解析法
4.3自動設計法
4.4其他設計法
第5章常用膜系分析與設計
5.1減反射膜（增透膜）
5.2反射膜
5.3分光膜
5.4截止濾光片
5.5帶通濾光片
5.6光波斜入射對膜系的影響
5.7光學薄膜設計範例
第6章光學薄膜套用舉例
6.1光學薄膜在導引頭半實物仿真系統中的套用
6.2光學薄膜在眼鏡行業中的套用
6.3截止濾光片的套用
6.4帶通濾光片的套用
下 篇
概述
第7章真空鍍膜設備
7.1真空基礎知識
7.2真空的獲得
7.3真空的測量與檢漏
第8章真空薄膜沉積技術
8.1熱蒸發鍍膜技術
8.2濺射鍍膜技術
8.3離子鍍膜技術
8.4膜厚的監控
8.5獲得均勻膜層的方法
第9章物理氣相沉積薄膜的結構與特性
9.1薄膜形成與微觀結構
9.2薄膜特性
9.3鍍膜工藝對薄膜性能的影響
第10章光學薄膜的性能測試
10.1光學常數的測試
10.2光學性能的測試
10.3機械性能的測試
10.4其他性能的測試
第11章常用光學薄膜材料
11.1金屬薄膜
11.2介質薄膜
11.3特殊材料
附錄
附錄1光學零件鍍膜分類、符號及標註
附錄2光學薄膜元件環境適應性試驗方法
附錄3光學和光學儀器光學薄膜
附錄4 ISO 9211—1：2010
附錄5 ISO 9211—2：2010
附錄6 ISO 9211—3：2008（E）
附錄7 ISO 9211—4：2006（E）
術語索引
參考文獻
