真空蒸鍍金屬薄膜是在真空條件下,將金屬蒸鍍在薄膜基材的表面而形成複合薄膜的一種新工藝。被鍍金屬材料可以是金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等,其中用的最多的是鋁。在塑膠薄膜或紙張表面(單面或雙面)鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄膜,它廣泛地用來代替鋁箔複合材料如鋁箔/塑膠、鋁箔/紙等使用。
基本介紹
- 中文名:真空蒸鍍金屬薄膜
- 外文名:Vacuum evaporation is a thin film
- 性質:概念
- 產生條件:真空條件
- 類型:新工藝
- 學科:冶金工程
真空蒸鍍金屬薄膜是在真空條件下,將金屬蒸鍍在薄膜基材的表面而形成複合薄膜的一種新工藝。被鍍金屬材料可以是金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等,其中用的最多的是鋁。在塑膠薄膜或紙張表面(單面或雙面)鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄膜,它廣泛地用來代替鋁箔複合材料如鋁箔/塑膠、鋁箔/紙等使用。
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