基本介紹
- 書名：真空科學與技術叢書:真空鍍膜
- 出版社：化學工業出版社
- 頁數：310頁
- 開本：16
- 品牌：化學工業出版社
- 作者：李雲奇
- 出版日期：2012年8月1日
- 語種：簡體中文
- ISBN：712212780X, 9787122127808
內容簡介,圖書目錄,序言,
內容簡介
《真空科學與技術叢書:真空鍍膜》是本著突出近代真空鍍膜技術進步，注重系統性、強調實用性而編著的。全書共11章，內容包涵了真空鍍膜中物理基礎，各種蒸發源與濺射靶的設計、特點、使用要求，各種真空鍍膜方法以及薄膜的測量與監控，真空鍍膜工藝對環境的要求等。本書具有權威性、實用性和通用性。
《真空科學與技術叢書:真空鍍膜》可作為從事真空鍍膜技術的技術人員、真空專業的本科生、研究生教材使用，亦可供鍍膜、表面改型等專業和真空行業技術人員參考。
《真空科學與技術叢書:真空鍍膜》可作為從事真空鍍膜技術的技術人員、真空專業的本科生、研究生教材使用，亦可供鍍膜、表面改型等專業和真空行業技術人員參考。
圖書目錄
第1章真空鍍膜概論
1.1概述
1.2影響固體表面結構、形貌及其性能的因素
1.2.1原子和分子構成固體物質
1.2.2多晶體物質結構
1.2.3材料受到的各種應力負荷
1.2.4材料加工所帶來的缺陷
1.2.5基片表面塗敷硬質薄膜的必要性
1.3真空鍍膜及其工藝特點和應賦予塗層的功能
1.4薄膜的特徵
1.4.1薄膜的結構特徵
1.4.2金屬薄膜的電導特徵
1.4.3金屬薄膜電阻溫度係數特徵
1.4.4薄膜的密度特徵
1.4.5薄膜的時效變化特徵
1.5薄膜的套用
1.5.1電子工業用薄膜
1.5.2光學工業中套用的各種光學薄膜
1.5.3機械、化工、石油等工業中套用的硬質膜、耐蝕膜和潤滑膜
1.5.4有機分子薄膜
1.5.5民用及食品工業中的裝飾膜和包裝膜
1.6真空鍍膜的發展歷程及最新進展
參考文獻
第2章真空鍍膜技術基礎
2.1真空鍍膜物理基礎
2.1.1真空及真空狀態的表征和測量
2.1.2氣體的基本性質
2.1.3氣體的流動與流導
2.1.4氣體分子與固體表面的相互作用
2.2真空鍍膜低溫電漿基礎
2.2.1電漿及其分類與獲得
2.2.2低氣壓下氣體的放電
2.2.3低氣壓下氣體放電的類型
2.2.4低氣壓下冷陰極氣體輝光放電
2.2.5低氣壓非自持熱陰極弧光放電
2.2.6低氣壓自持冷陰極弧光放電
2.2.7磁控輝光放電
2.2.8空心冷陰極輝光放電
2.2.9高頻放電
2.2.10電漿巨觀中性特徵及其中性空間強度的判別
2.3薄膜的生長與膜結構
2.3.1膜的生長過程及影響膜生長的因素
2.3.2薄膜的結構及其結構缺陷
2.4薄膜的性質及其影響因素
2.4.1薄膜的力學性質及其影響因素
2.4.2薄膜的電學性質
2.4.3薄膜的光學性質及其影響膜折射率的因素
2.4.4薄膜的磁學性質
參考文獻
第3章蒸發源與濺射靶
3.1蒸發源
3.1.1蒸發源及其設計與使用中應考慮的問題
3.1.2電阻加熱式蒸發源
3.1.3電子束加熱式蒸發源
3.1.4空心熱陰極電漿電子束蒸發源
3.1.5感應加熱式蒸發源
3.1.6雷射加熱式蒸發源
3.1.7輻射加熱式蒸發源
3.1.8蒸發源材料
3.1.9蒸發源的發射特性及膜層的厚度分布
3.2濺射靶
3.2.1濺射靶的結構及其設計要求
3.2.2濺射靶材
參考文獻
第4章真空蒸發鍍膜
4.1真空蒸發鍍膜技術
4.1.1真空蒸發鍍膜原理及蒸鍍條件
4.1.2薄膜材料
4.1.3合金膜的蒸鍍
4.1.4化合物膜的蒸鍍
4.1.5影響真空蒸鍍性能的因素
4.2分子束外延技術
4.2.1分子束外延生長的基本原理與過程
4.2.2分子束外延生長的條件、製備方法與特點
4.2.3分子束外延生長參數選擇
4.2.4影響分子束外延的因素
4.2.5分子束外延裝置
4.3真空蒸發鍍膜設備
4.3.1真空蒸發鍍膜機的類型及其結構
4.3.2真空蒸發鍍膜機中的主要構件
4.4真空蒸發塗層的製備實例
4.4.1真空蒸鍍鋁塗層
4.4.2真空蒸鍍Cd （Se，S）塗層
4.4.3真空蒸鍍ZrO2塗層
4.4.4分子束外延生長金單晶塗層
參考文獻
第5章真空濺射鍍膜
5.1真空濺射鍍膜的復興與發展
5.2真空濺射鍍膜技術
5.2.1真空濺射鍍膜的機理分析及其濺射過程
5.2.2靶材粒子向基體上的遷移過程
5.2.3靶材粒子在基體上的成膜過程
5.2.4濺射薄膜的特點及濺射方式
5.2.5直流濺射鍍膜
5.2.6磁控濺射鍍膜
5.2.7射頻濺射鍍膜
5.2.8反應濺射鍍膜
5.2.9中頻濺射與脈衝濺射鍍膜
5.2.10對向靶電漿濺射鍍膜
5.2.11偏壓濺射鍍膜
5.3真空濺射鍍膜設備
5.3.1間歇式真空濺射鍍膜機
5.3.2半連續磁控濺射鍍膜機
5.3.3大面積連續式磁控濺射鍍膜設備
參考文獻
第6章真空離子鍍膜
6.1真空離子鍍膜及其分類
6.2離子鍍膜原理及其成膜條件
6.3離子鍍膜過程中電漿的作用及到達基體入射的粒子能量
6.4離子轟擊在離子鍍過程中產生的物理化學效應
6.5離化率與中性粒子和離子的能量及膜層表面上的活化係數
6.5.1離化率
6.5.2中性粒子所帶的能量
6.5.3離子能量
6.5.4膜層表面的能量活化係數
6.6離子鍍塗層的特點及其套用範圍
6.7離子鍍膜的參數
6.7.1鍍膜室的氣體壓力
6.7.2反應氣體的分壓
6.7.3蒸發源功率
6.7.4蒸發速率
6.7.5蒸發源和基體間的距離
6.7.6沉積速率
6.7.7基體的負偏壓
6.7.8基體溫度
6.8離子鍍膜裝置及常用的幾種鍍膜設備
6.8.1直流二極、三極及多極型離子裝置
6.8.2活性反應離子鍍裝置
6.8.3空心陰極放電離子鍍膜裝置
6.8.4射頻放電離子鍍裝置
6.8.5磁控濺射離子鍍膜裝置
6.8.6真空陰極電弧離子鍍膜裝置
6.8.7冷電弧陰極離子鍍膜裝置
6.8.8熱陰極強流電弧離子鍍裝置
參考文獻
……
第7章離子束沉積與離子束輔助沉積
第8章化學氣相沉積
第9章薄膜的測量與監控
第10章薄膜性能分析
第11章真空鍍膜技術中的清潔處理
1.1概述
1.2影響固體表面結構、形貌及其性能的因素
1.2.1原子和分子構成固體物質
1.2.2多晶體物質結構
1.2.3材料受到的各種應力負荷
1.2.4材料加工所帶來的缺陷
1.2.5基片表面塗敷硬質薄膜的必要性
1.3真空鍍膜及其工藝特點和應賦予塗層的功能
1.4薄膜的特徵
1.4.1薄膜的結構特徵
1.4.2金屬薄膜的電導特徵
1.4.3金屬薄膜電阻溫度係數特徵
1.4.4薄膜的密度特徵
1.4.5薄膜的時效變化特徵
1.5薄膜的套用
1.5.1電子工業用薄膜
1.5.2光學工業中套用的各種光學薄膜
1.5.3機械、化工、石油等工業中套用的硬質膜、耐蝕膜和潤滑膜
1.5.4有機分子薄膜
1.5.5民用及食品工業中的裝飾膜和包裝膜
1.6真空鍍膜的發展歷程及最新進展
參考文獻
第2章真空鍍膜技術基礎
2.1真空鍍膜物理基礎
2.1.1真空及真空狀態的表征和測量
2.1.2氣體的基本性質
2.1.3氣體的流動與流導
2.1.4氣體分子與固體表面的相互作用
2.2真空鍍膜低溫電漿基礎
2.2.1電漿及其分類與獲得
2.2.2低氣壓下氣體的放電
2.2.3低氣壓下氣體放電的類型
2.2.4低氣壓下冷陰極氣體輝光放電
2.2.5低氣壓非自持熱陰極弧光放電
2.2.6低氣壓自持冷陰極弧光放電
2.2.7磁控輝光放電
2.2.8空心冷陰極輝光放電
2.2.9高頻放電
2.2.10電漿巨觀中性特徵及其中性空間強度的判別
2.3薄膜的生長與膜結構
2.3.1膜的生長過程及影響膜生長的因素
2.3.2薄膜的結構及其結構缺陷
2.4薄膜的性質及其影響因素
2.4.1薄膜的力學性質及其影響因素
2.4.2薄膜的電學性質
2.4.3薄膜的光學性質及其影響膜折射率的因素
2.4.4薄膜的磁學性質
參考文獻
第3章蒸發源與濺射靶
3.1蒸發源
3.1.1蒸發源及其設計與使用中應考慮的問題
3.1.2電阻加熱式蒸發源
3.1.3電子束加熱式蒸發源
3.1.4空心熱陰極電漿電子束蒸發源
3.1.5感應加熱式蒸發源
3.1.6雷射加熱式蒸發源
3.1.7輻射加熱式蒸發源
3.1.8蒸發源材料
3.1.9蒸發源的發射特性及膜層的厚度分布
3.2濺射靶
3.2.1濺射靶的結構及其設計要求
3.2.2濺射靶材
參考文獻
第4章真空蒸發鍍膜
4.1真空蒸發鍍膜技術
4.1.1真空蒸發鍍膜原理及蒸鍍條件
4.1.2薄膜材料
4.1.3合金膜的蒸鍍
4.1.4化合物膜的蒸鍍
4.1.5影響真空蒸鍍性能的因素
4.2分子束外延技術
4.2.1分子束外延生長的基本原理與過程
4.2.2分子束外延生長的條件、製備方法與特點
4.2.3分子束外延生長參數選擇
4.2.4影響分子束外延的因素
4.2.5分子束外延裝置
4.3真空蒸發鍍膜設備
4.3.1真空蒸發鍍膜機的類型及其結構
4.3.2真空蒸發鍍膜機中的主要構件
4.4真空蒸發塗層的製備實例
4.4.1真空蒸鍍鋁塗層
4.4.2真空蒸鍍Cd （Se，S）塗層
4.4.3真空蒸鍍ZrO2塗層
4.4.4分子束外延生長金單晶塗層
參考文獻
第5章真空濺射鍍膜
5.1真空濺射鍍膜的復興與發展
5.2真空濺射鍍膜技術
5.2.1真空濺射鍍膜的機理分析及其濺射過程
5.2.2靶材粒子向基體上的遷移過程
5.2.3靶材粒子在基體上的成膜過程
5.2.4濺射薄膜的特點及濺射方式
5.2.5直流濺射鍍膜
5.2.6磁控濺射鍍膜
5.2.7射頻濺射鍍膜
5.2.8反應濺射鍍膜
5.2.9中頻濺射與脈衝濺射鍍膜
5.2.10對向靶電漿濺射鍍膜
5.2.11偏壓濺射鍍膜
5.3真空濺射鍍膜設備
5.3.1間歇式真空濺射鍍膜機
5.3.2半連續磁控濺射鍍膜機
5.3.3大面積連續式磁控濺射鍍膜設備
參考文獻
第6章真空離子鍍膜
6.1真空離子鍍膜及其分類
6.2離子鍍膜原理及其成膜條件
6.3離子鍍膜過程中電漿的作用及到達基體入射的粒子能量
6.4離子轟擊在離子鍍過程中產生的物理化學效應
6.5離化率與中性粒子和離子的能量及膜層表面上的活化係數
6.5.1離化率
6.5.2中性粒子所帶的能量
6.5.3離子能量
6.5.4膜層表面的能量活化係數
6.6離子鍍塗層的特點及其套用範圍
6.7離子鍍膜的參數
6.7.1鍍膜室的氣體壓力
6.7.2反應氣體的分壓
6.7.3蒸發源功率
6.7.4蒸發速率
6.7.5蒸發源和基體間的距離
6.7.6沉積速率
6.7.7基體的負偏壓
6.7.8基體溫度
6.8離子鍍膜裝置及常用的幾種鍍膜設備
6.8.1直流二極、三極及多極型離子裝置
6.8.2活性反應離子鍍裝置
6.8.3空心陰極放電離子鍍膜裝置
6.8.4射頻放電離子鍍裝置
6.8.5磁控濺射離子鍍膜裝置
6.8.6真空陰極電弧離子鍍膜裝置
6.8.7冷電弧陰極離子鍍膜裝置
6.8.8熱陰極強流電弧離子鍍裝置
參考文獻
……
第7章離子束沉積與離子束輔助沉積
第8章化學氣相沉積
第9章薄膜的測量與監控
第10章薄膜性能分析
第11章真空鍍膜技術中的清潔處理
序言
真空科學技術是現代科學技術中套用最為廣泛的高技術之一。製備超純材料需要超高真空技術，太陽能薄膜電池及晶片製作需要清潔真空技術，太空飛行器空間環境地面模擬設備需要大型真空容器技術。真空科學技術已滲透到人們的教學、科研、生產過程、經濟活動以及日常生活中的方方面面，人們普遍認識到了真空科學技術的重要性。
真空科學技術是一門涉及多學科、多專業的綜合性套用技術，它吸收了眾多科學技術領域的基礎理論和最新成果，使自己不斷地進步和發展。真空科學技術的套用標誌著國家科學和工業現代化的水平，大力發展真空科學技術是振興民族工業，實現國家現代化的基本出發點。
多年來，黨和國家政府非常重視發展真空科學技術。大學設立了真空科學技術專業，培養高層次真空專業人才；興辦真空企業，設計、製造真空產品；成立真空科學技術研究所開發新技術，提高真空套用水平；建立了相當規模和水平的真空教學、科研和生產體系；獨立自主地生產出各種真空產品，滿足了各行業的需求，推動了社會主義經濟的發展。
在取得豐碩的物質成果和經濟效益的同時，真空科技人員積累了寶貴的理論認知和實踐經驗。在和真空科學技術摸、爬、滾、打的漫長歲月中，一大批人以畢生的精力，辛勤的勞動親身經歷了多少次失敗的痛苦和成功的喜悅。通過深刻的思考與精心的整理換得了大量的實踐經驗，這些付出了昂貴代價得來的知識是書本上難以學到的。經歷了半個世紀滄桑歲月，當年風華正茂的真空科技工作者均年事已高，霜染鬢須，退居二線。唯一的希望是將自己積累的知識、技能、經驗、教訓通過文字載體傳承給新一代的後來人，使他們能夠在前人搭建的較高平台上工作。基於這一考慮，在蘭州物理研究所支持下，我們聚集在一起，成立了《真空科學技術叢書》編寫委員會，由全國高等院校、科研院所及企業中長期從事真空科學技術研製工作的工程技術人員組成。編寫一套《真空科學技術叢書》，系統的、完整的從真空科學技術的基本理論出發，重點敘述套用技術及套用的典型例證。這套叢書分專業、分學科門類編寫，強調系統性、理論性和實用性，避免重複性。這套叢書的出版是我國真空科學技術工作者大力合作的成果，匯集了我國真空科學技術發展的經驗，希望這套叢書對21世紀我國真空科學技術的進步和發展起到推動作用，為實施科教興國戰略做出貢獻。
這套叢書像流水一樣持續不斷，是不封閉的系列叢書，只要有相關著作就可以陸續納入這套叢書出版。《叢書》可供大專院校師生，科學研究人員，工業、企業技術人員參考。
這套叢書成立了編寫委員會，設主編、副主編及參編人員、技術編輯等，由化學工業出版社出版發行。部分真空界企業提供了資助，作者、審稿者、編輯等付出了辛勤勞動，在此一併表示衷心感謝。
達道安
2012年03月22日
真空科學技術是一門涉及多學科、多專業的綜合性套用技術，它吸收了眾多科學技術領域的基礎理論和最新成果，使自己不斷地進步和發展。真空科學技術的套用標誌著國家科學和工業現代化的水平，大力發展真空科學技術是振興民族工業，實現國家現代化的基本出發點。
多年來，黨和國家政府非常重視發展真空科學技術。大學設立了真空科學技術專業，培養高層次真空專業人才；興辦真空企業，設計、製造真空產品；成立真空科學技術研究所開發新技術，提高真空套用水平；建立了相當規模和水平的真空教學、科研和生產體系；獨立自主地生產出各種真空產品，滿足了各行業的需求，推動了社會主義經濟的發展。
在取得豐碩的物質成果和經濟效益的同時，真空科技人員積累了寶貴的理論認知和實踐經驗。在和真空科學技術摸、爬、滾、打的漫長歲月中，一大批人以畢生的精力，辛勤的勞動親身經歷了多少次失敗的痛苦和成功的喜悅。通過深刻的思考與精心的整理換得了大量的實踐經驗，這些付出了昂貴代價得來的知識是書本上難以學到的。經歷了半個世紀滄桑歲月，當年風華正茂的真空科技工作者均年事已高，霜染鬢須，退居二線。唯一的希望是將自己積累的知識、技能、經驗、教訓通過文字載體傳承給新一代的後來人，使他們能夠在前人搭建的較高平台上工作。基於這一考慮，在蘭州物理研究所支持下，我們聚集在一起，成立了《真空科學技術叢書》編寫委員會，由全國高等院校、科研院所及企業中長期從事真空科學技術研製工作的工程技術人員組成。編寫一套《真空科學技術叢書》，系統的、完整的從真空科學技術的基本理論出發，重點敘述套用技術及套用的典型例證。這套叢書分專業、分學科門類編寫，強調系統性、理論性和實用性，避免重複性。這套叢書的出版是我國真空科學技術工作者大力合作的成果，匯集了我國真空科學技術發展的經驗，希望這套叢書對21世紀我國真空科學技術的進步和發展起到推動作用，為實施科教興國戰略做出貢獻。
這套叢書像流水一樣持續不斷，是不封閉的系列叢書，只要有相關著作就可以陸續納入這套叢書出版。《叢書》可供大專院校師生，科學研究人員，工業、企業技術人員參考。
這套叢書成立了編寫委員會，設主編、副主編及參編人員、技術編輯等，由化學工業出版社出版發行。部分真空界企業提供了資助，作者、審稿者、編輯等付出了辛勤勞動，在此一併表示衷心感謝。
達道安
2012年03月22日
