超高真空磁控與離子束系統

超高真空磁控與離子束系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2006年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：超高真空磁控與離子束系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2006年12月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

系統極限真空： 磁控濺射室：達6.6*10＾-5Pa 離子束濺射室：達6.6*10＾-5Pa 系統抽速： 磁控濺射室：達6.6*10＾-4Pa 離子束濺射室：達6.6*10＾-4Pa 系統漏率： 磁控濺射室：≤1Pa 離子束濺射室：≤1Pa 樣品加熱溫度：室溫～500℃。

主要功能

主要套用於磁控濺射室及離子束濺射室的方法製備薄膜。 適用範圍：靶材可以用金屬或陶瓷材料，幾篇可用玻璃燈無機材料。實現基片上的鍍膜。