超真空磁控與離子束是一種用於材料科學領域的物理性能測試儀器,於2006年11月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:超真空磁控與離子束
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2006年11月1日
- 所屬類別:物理性能測試儀器
超真空磁控與離子束是一種用於材料科學領域的物理性能測試儀器,於2006年11月1日啟用。
超高真空磁控與離子束系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2006年12月1日啟用。技術指標 系統極限真空: 磁控濺射室:達6.6*10^-5Pa 離子束濺射室:達6.6*10^-5Pa 系統抽速: 磁控濺射室:達6.6*10^-4Pa 離子束...
超高真空磁控與離子束聯合濺射設備是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2011年3月1日啟用。中文名 超高真空磁控與離子束聯合濺射設備 產地 中國 學科領域 材料科學 啟用日期 2011年3月1日 所屬類別 分析儀器 > 樣品前處理及製備...
超高真空磁控濺射與離子束濺射鍍膜設備是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2006年11月30日啟用。技術指標 背底真空6×10-5Pa,樣品加熱溫度650℃。主要功能 可實現多靶共濺射,可生長梯度材料。
高真空磁控與離子束衍射儀 高真空磁控與離子束衍射儀是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的天文儀器,於2005年10月31日啟用。技術指標 加鈦升華泵真空6.6×10^-6 Pa。主要功能 通過磁控濺射製備納米薄膜材料。
磁控與離子束聯合測射儀是一種用於物理學、材料科學領域的計量儀器,於2005年01月01日啟用。技術指標 薄膜材料製備,包括金屬薄膜、半導體薄膜、絕緣體薄膜等。背底真空度為3×10-5Pa,襯底可加熱500℃,5個靶位,6個樣品位。主要...
多功能離子束磁控濺射是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2005年10月1日啟用。技術指標 真空室Φ800mm×H1000mm,配1套50kV中能離子源、兩套Φ80cm濺射離子源、一套Φ60cm低能清洗離子源、兩套三工位濺射轉靶、兩套Φ50cm磁控...
離子束輔助磁控濺射系統 離子束輔助磁控濺射系統是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器,於2011年1月1日啟用。技術指標 兩個500W射頻靶 兩個500W直流靶 極限真空 1*10-6 Pa 陽極離子源一個。主要功能 沉積功能薄膜材料。
高真空雙室多功能薄膜製備系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2012年12月1日啟用。技術指標 極限真空: 10-6Pa 氣體控制:流量範圍0-200sccm 樣品有效尺寸:主要功能 利用磁控濺射和離子束濺射的蒸發方法,用於製備單層或多層薄膜...
多靶磁控-離子束共濺射儀是一種用於航空、航天科學技術領域的工藝試驗儀器,於2012年5月14日啟用。技術指標 設備由LSR-1003雷射器、FBD-1340光纖驅動器、XRV-1216光學發射/接收器、TRV-1003三坐標移測架等組成。主要功能 產生雷射源供...
2管)、快速熱處理設備、濕法清洗刻蝕台(12台套)、多靶磁控濺射系統(4台套)、超高真空磁控濺射系統、電子束蒸發設備(2套)、離子束濺射機、離子束刻蝕機、等離子增強化學氣相沉積設備、金屬反應離子刻蝕設備、介質反應離子刻蝕設備、...
其中擁有包括H-800透射電子顯微鏡,掃描電子顯微鏡、射線衍射儀、雷射加工設備、X雷射粒度儀、真空感應熔煉爐、熱壓爐、FJL500超高真空磁控離子束聯合濺射儀等大型設備在內的實驗設備有480餘台,實驗設備總價值4500餘萬元。近年來,學校正...
學院現有辦公及實驗室總面積(含異地研究院)超過4000平米,設備儀器總價值超過2億,包括了8英寸超高真空磁控濺射儀,具有終點檢測的離子束刻蝕儀器等各類微納加工設備及電學、磁學及光學綜合測試平台等,為北航積體電路學科建設、人才培養及...