高真空雙室多功能薄膜製備系統

高真空雙室多功能薄膜製備系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2012年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空雙室多功能薄膜製備系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2012年12月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

極限真空: 10-6Pa 氣體控制：流量範圍0-200sccm 樣品有效尺寸：＜120mm 烘烤溫度最高可達200℃。

主要功能

利用磁控濺射和離子束濺射的蒸發方法，用於製備單層或多層薄膜。