雙室多功能薄膜沉積與實時監控PECVD系統

雙室多功能薄膜沉積與實時監控PECVD系統是一種用於電子與通信技術領域的電子測量儀器，於2015年11月11日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙室多功能薄膜沉積與實時監控PECVD系統
• 產地：中國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2015年11月11日
• 所屬類別：電子測量儀器

技術指標

基底真空度=5*10(-5)Pa。

主要功能

雙室多功和質譜聯用測試。