超高真空磁控與離子束聯合濺射設備

超高真空磁控與離子束聯合濺射設備是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2011年3月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：超高真空磁控與離子束聯合濺射設備
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2011年3月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器

技術指標

真空室尺寸 濺射室 φ560×300 離子束室 φ500×450 進樣室 φ250×400 極限真空 濺射室 6.6×10-6Pa 由大氣抽到極限真空所需時間少於60min 離子束室 6.6×10-6Pa 進樣室 6.6×10-4Pa 樣品台形式及運動 樣品尺寸 φ30 運動方式 往復迴轉 水冷加熱 有 加熱 800℃ 工作方式 靶在下，樣品在上 自選自動控制功能 鍍膜過程採用計算機控制 膜厚監控儀 有（進口）。

主要功能

該設備集成磁控濺射，離子束濺射沉積為一體聯合鍍膜設備，設備包括進樣室，磁控濺射工作室和離子束濺射工作室。