離子濺射台是一種用於物理學領域的分析儀器,於2016年06月30日啟用。
基本介紹
- 中文名:離子濺射台
- 產地:美國
- 學科領域:物理學
- 啟用日期:2016年06月30日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 電子能譜儀
技術指標,主要功能,
技術指標
500mm(直徑) x 600mm(高) 的不鏽鋼內腔,具有前道打開的門和滿室。
主要功能
磁控濺射台,用於高真空級別的渦輪或低溫泵。
離子濺射台是一種用於物理學領域的分析儀器,於2016年06月30日啟用。
離子濺射台是一種用於物理學領域的分析儀器,於2016年06月30日啟用。技術指標500mm(直徑) x 600mm(高) 的不鏽鋼內腔,具有前道打開的門和滿室。1主要功能磁控濺射台,用於高真空級別的渦輪或低溫泵。1...
離子束濺射台 離子束濺射台是一種用於物理學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2005年09月21日啟用。技術指標 濺射速率:3A/sec ;均勻性:2%。主要功能 利用離子轟擊靶材製備薄膜 尤其適用於膜厚需要精確控制的光學薄膜。
磁控與離子束濺射台是一種用於物理學、材料科學、機械工程、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2013年12月13日啟用。技術指標 濺射室極限真空度:≤6.67x10-6Pa (經烘烤除氣後); 進樣室極限真空度:≤6.67x10-4Pa (經烘烤...
5.1 離子濺射的基本原理 64 5.1.1 濺射現象 64 5.1.2 濺射產額及其影響因素 65 5.1.3 選擇濺射現象 70 5.1.4 濺射鍍膜工藝 70 5.2 濺射工藝設備 72 5.2.1 直流濺射台 74 5.2.2 射頻濺射台 ...