離子束濺射台

離子束濺射台是一種用於物理學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2005年09月21日啟用。

基本介紹

• 中文名：離子束濺射台
• 產地：英國
• 學科領域：物理學、電子與通信技術
• 啟用日期：2005年09月21日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

濺射速率：3A/sec ；均勻性：2%。

主要功能

利用離子轟擊靶材製備薄膜 尤其適用於膜厚需要精確控制的光學薄膜。