超高真空多對靶磁控與離子束濺射鍍膜系統

超高真空多對靶磁控與離子束濺射鍍膜系統是一種用於物理學領域的科學儀器，於2006年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：超高真空多對靶磁控與離子束濺射鍍膜系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2006年12月1日

技術指標

系統極限真空：1×10-4 Pa RF射頻電源：500 W DC直流電源：500 W 加熱控溫電源：800 ℃。

主要功能

本設備可用於開發納米級的單層及多層功能膜——各種硬質膜，金屬膜，半導體膜，介質膜，鐵磁膜等材料，為新材料和薄膜科學研究領域提供了十分理想的研製手段。