磁控與離子束輔助沉積是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2006年10月26日啟用。
基本介紹
- 中文名：磁控與離子束輔助沉積
- 產地：中國
- 學科領域：物理學、材料科學
- 啟用日期：2006年10月26日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
型號 FJL-560 真空室尺寸 Ф550x450mm 真空系統配置 複合分子泵、機械泵、閘板閥 極限壓力 ≤6.67x10-5Pa (經烘烤除氣後) 恢復真空時間 40分鐘可達到6.6x10-4Pa (系統短時間暴露大氣並充乾燥氮氣開始抽氣) 磁控靶組件 永磁靶4套 靶材尺寸Φ60mm(其中一個可以濺射鐵磁性材料) 各靶射頻濺射與直流濺射兼容； 靶與樣品距離40-80mm可調 主濺射離子槍 引出柵直徑Φ30mm離子束能量0.4-2.0Kev連續可調 輔助沉積離子槍 引出柵直徑：Φ30mm離子束能量：0.4-1.5Kev連續可調 離子流密度：1-3mA/cm2 氣路系統 質量流量控制器3路 計算機控制系統 控制靶擋板、四工位轉靶換靶位、樣品公轉、樣品擋板、樣品控溫等。
主要功能
系統主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉台、Kaufman離子槍、四工位轉靶、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機台等部分組成。
