高真空複合鍍膜設備

高真空複合鍍膜設備是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器，於2010年07月30日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空複合鍍膜設備
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2010年07月30日
• 所屬類別：物理性能測試儀器

技術指標

系統極限真空

主要功能

具有磁控濺射、離子束濺射、離子束輔助沉積與清洗功能。可用於製備各種金屬膜 、半導體膜、介質膜以及鐵電薄膜、各類光學膜（如軟X射線光學膜）、磁記錄薄膜和各種硬質薄膜。該設備不但可製備金屬多層膜。