多功能離子束磁控濺射

多功能離子束磁控濺射是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2005年10月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：多功能離子束磁控濺射
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2005年10月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

真空室Φ800mm×H1000mm，配1套50kV中能離子源、兩套Φ80cm濺射離子源、一套Φ60cm低能清洗離子源、兩套三工位濺射轉靶、兩套Φ50cm磁控濺射靶、六工位自轉/公轉樣品台（含兩個水冷台、兩個加熱台、一個粉末台、一個偏壓台）、極限真空度≤1×10-4Pa、漏率≤1×10-8Pa L/S、配循環水冷卻系統。

主要功能

磁控濺射鍍膜，離子束濺射鍍膜。