高通量磁控濺射鍍膜設備

高通量磁控濺射鍍膜設備是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2015年12月14日啟用。

基本介紹

• 中文名：高通量磁控濺射鍍膜設備
• 產地：中國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2015年12月14日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備

技術指標

極限真空6.7*10-5Pa,磁控濺射/離子束高通量鍍膜。

主要功能

無機金屬薄膜的製作，無機介質薄膜的製作。