高真空磁控濺射與離子束濺射複合鍍膜設備

高真空磁控濺射與離子束濺射複合鍍膜設備是一種用於物理學、地球科學、工程與技術科學基礎學科領域的物理性能測試儀器，於2008年12月8日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空磁控濺射與離子束濺射複合鍍膜設備
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、地球科學、工程與技術科學基礎學科
• 啟用日期：2008年12月8日
• 所屬類別：物理性能測試儀器 > 顆粒度測量儀器

技術指標

1. 真空泵：分子泵； 2. 樣品傳輸：手動真空環境傳輸； 3. 原位監控：流量監控、氣壓監控、濺射電學參數監控； 4. 濺射方式：射頻（RF），直流（DC）。

主要功能

半導體薄膜材料的製備。