基本介紹
- 中文名:濺射靶材
- 行業:材料行業
- 分類:金屬,合金,陶瓷化合物
- 套用領域:電子及信息產業
基本信息

主要套用
- 根據形狀可分為方靶,圓靶,異型靶
濺射靶材的要求較傳統材料行業高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻...
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,...
磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用於製備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易於控制、鍍膜面積大和附著...
濺射工藝是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面,使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下...
對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能雷射轟擊靶材,並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,並且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。...
鋁靶材是用於真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純鋁經過系列加工後的產品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。...
濺射對於遠程有彈道英雄就像分裂斬對於近戰英雄,它和分裂斬有相似也有不同的地方。最大的不同在於AoE在彈道擊到的目標處決定,而不是分裂斬由攻擊者站立的地方確定...
對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能雷射轟擊靶材,並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,並且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。濺射鍍膜...
磁控濺射原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的...
電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材,採用國際標準Adopted International Standard ,英文項目名稱Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering...
《平面磁控濺射靶材 光學薄膜用矽靶(YS/T 719-2009)》由全國有色金屬標準化技術委員會提出並歸口。本標準負責起草單位:利達光電股份有限公司。本標準主要起草人:...
銅靶材是真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純銅材料經過系列加工後的產品,具有特定的尺寸和形狀高純銅材料。由於高純銅特別是超高純銅具有許多優良的特性,目前已廣泛...
濺射鍍膜技術是用離子轟擊靶材表面,把靶材的原子被擊出的現象稱為濺射。濺射產生的原子沉積在基體表面成膜稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離,其正離子在...
射頻濺射是利用射頻放電電漿中的正離子轟擊靶材、濺射出靶材原子從而沉積在接地的基板表面的技術。射頻濺射: 用交流電源代替直流電源就構成了交流濺射系統, 由於...
深圳市宏瑞興濺射靶材有限公司是一家集濺射靶材研發、生產、銷售為一體的高科技企業,公司集國內外先進的生產製造經驗,為廣大的真空鍍膜行業客戶提供性能優異的各種靶材...
磁控濺射鍍膜是指將塗層材料做為靶陰極,利用氬離子轟擊靶材,產生陰極濺射,把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術。...
平面靶材主要是指具有一定厚度的圓形靶材及矩形靶材。...... 平面靶材:planetarget濺射靶材根據形狀可分為平面靶材,多弧靶材,旋轉靶材。,例如:直徑100*厚度40mm的銅...
《平面磁控濺射靶材 光學薄膜用鈮靶(YS/T 718-2009)》由全國有色金屬標準化技術委員會提出並歸口。本標準起草單位:利達光電股份有限公司。本標準主要起草人:李智超...
反應濺射是指在存在反應氣體的情況下,濺射靶材時,靶材會與反應氣體反應形成化合物(如氮化物或氧化物),在惰性氣體濺射化合物靶材時由於化學不穩定性往往導致薄膜較...
旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的,裡面裝有靜止不動的磁體,以慢速轉動。...... 高純合金濺射靶材二元合金靶鎳鉻靶Ni-Cr 鎳鐵靶Ni-Fe 鎳鈷靶Ni-Co 鎳鋯...
等離子濺射(plasma sputtering)物質除固態、液態和氣態之外,還有第四態,即等離子態。在外界高能作用下,分子或原子被離解成陽離子及同等數量的陰離子或電子,這一總體...