鋁靶材

鋁靶材是用於真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加工後的產品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。

基本介紹

• 中文名：鋁靶材 
• 外文名：Aluminum Target
• 用途：真空濺射鍍膜
• 產地：中國

名稱

鋁靶材

物理性質

元素符號	Al靶材	元素符號	Al靶材
相對分子質量	26.98	蒸發潛熱	11.4
原子體積	9.996*10-6	蒸汽壓	660/10-8-10-9
晶型	Fcc面心立方	電導率	37.67
堆積密度	74%	電阻係數	+0.115
配位數	12	吸收光譜	0.20*10-24
晶格能	200*10-7	泊松比	0.35
密度	2.7	可壓縮性	13.3mm2/MN
彈性模量	66.6Gpa	熔點	660.2
剪下模量	25.5Gpa	沸點	約2500

用途

適用於直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、積體電路、顯示器等，相對其它靶材，鋁靶材的價格較低，所以鋁靶材是在能滿足膜層的功能前提下的首選靶材料。

分類

鋁靶材有平面鋁靶材和旋轉鋁靶材之分

平面鋁靶材是片狀的，有圓形、方形等。

旋轉鋁靶材是管狀的，利用效率高，但不易加工，要通過高純鋁擠壓、拉伸、校直熱處理，機加工等多種加工工序才能最終製得鋁旋轉靶材成品。

生產方法

1、鋁的生產和提純：鋁是從鋁土礦中提取Al2O3，再在熔融冰晶石中電解而得到的，純度一般在99%以上，但這樣純度的鋁根本無法作為生產鋁靶材的原材料，鋁靶材對鋁材的第一個要求也是最重要的要求就是純度要高，鋁靶材所用的高純鋁是再經過偏析法、三層電解法或聯合區域熔煉法生產而成的，價格要比工業純鋁99.7貴很多，目前國內最高純度在99.9999%（6N）左右。

2、鋁靶材的變形處理：有了高純度鋁錠作為原材料，對原材料進行鍛造、軋制、熱處理等，使鋁錠內晶粒變細小、緻密度增加以滿足濺射所需鋁靶材的要求。

3、對變形處理後的高純度鋁材料進行機械加工，鋁靶材加工要求精度高、表面質量高，加工成真空鍍膜機所需的靶材尺寸就可以了，鋁靶材與鍍膜機多以螺紋相連線。

目前概況

靶材名稱	鋁靶材
常用純度	99.9%（3N)	99.99%(4N）	99.999%（5N)	99.9999%(6N）
常用尺寸	100*40mm
最大尺寸	長3000mm

展望

隨著電子行業的飛速發展，對鋁靶材的要求也在一步步增加，鋁靶材的純度和市場規範化、產品標準化還有待國家相關技術的員的共同努力！