電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材，採用國際標準Adopted International Standard ，英文項目名稱Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application
基本介紹
- 中文名：電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材
- 外文名：Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application
- 項目編號：20110426-T-610
- 採用程度：Application Degree
基本介紹
項目編號Plan Name in Chinese 20110426-T-610
中文項目名稱Plan Name in Chinese 電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材
英文項目名稱Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application
制\修訂Plan Name in English 制定
被修訂標準號Replaced Standard
採用國際標準Adopted International Standard 無
採用國際標準號Adopted International Standard No
採用程度Application Degree
采標名稱Adopted International Standard Name
標準類別Plan Name in English 產品
國際標準分類號(ICS)
計畫完成年限Suppose to Be Finished Year 2012年
完成時間Achievement Time
所處階段Plan Phase 起草階段
國家標準號Standard No.
備註Remark 國標委綜合[2011]57號
起草單位Drafting Committee 有研億金新材料股份有限公司
主管部門Governor 中國有色金屬工業協會
歸口單位Technical Committees 243 全國有色金屬標準化技術委員會
