磁控濺射鍍膜是指將塗層材料做為靶陰極,利用氬離子轟擊靶材,產生陰極濺射,把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術。
是將塗層材料做為靶陰極,利用氬離子轟擊靶材,產生陰極濺射,把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術,塗層材料一直保持固態,不形成熔池。
磁控濺射鍍膜是指將塗層材料做為靶陰極,利用氬離子轟擊靶材,產生陰極濺射,把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術。
磁控濺射鍍膜是指將塗層材料做為靶陰極,利用氬離子轟擊靶材,產生陰極濺射,把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術。...
濺射鍍膜技術是用離子轟擊靶材表面,把靶材的原子被擊出的現象稱為濺射。濺射產生的原子沉積在基體表面成膜稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離,其正離子在...
磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用於製備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易於控制、鍍膜面積大和附著...
真空磁控濺射技術是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱,使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移。設定一個與靶面電場正交的磁場,濺射時產生的快電子在正交的...
尤其重點介紹了一些近年來新出現的鍍膜方法與技術,如反應磁控濺射鍍膜技術、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術等;還詳細介紹了薄膜沉積及膜厚的監控與測量以及...
鍍膜玻璃的生產方法很多,主要有真空磁控濺射法、真空蒸發法、化學氣相沉積法以及溶膠—凝膠法等。磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術可以設計製造多層複雜膜系,可在白色...
二極濺射鍍膜是指在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應,使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過程。屬於物理氣相沉積(PVD)製備薄膜技術的...
磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電,使氬氣發生電離。...
磁控濺射鍍膜靶材:金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材 ,氮化物陶瓷濺射靶材 ,氧化物陶瓷...
磁控濺射隔熱膜又稱磁控濺射金屬膜,採用多層磁控濺射工藝打造而成,以持久反射隔熱的出色性能而著稱。由於其高清晰、高隔熱、高穩定、低內反光、色澤純正、永不退色...
3.1.2磁控濺射工藝57 3.1.3磁控濺射生產材料58 3.1.4磁控濺射法的生產方式和工藝流程64 3.1.5磁控濺射法生產鍍膜玻璃的特點66 3.1.6磁控濺射法生產鍍膜玻璃...
磁控濺射原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的...
c中頻磁控濺射鍍膜機;d射頻磁控濺射鍍膜機。可以在金屬或非金屬(塑膠、玻璃、陶瓷)的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不鏽鋼及金屬反應物(氧化...
如果採用金屬Cr靶,在N 2 氣氛中進行非平衡磁控濺射鍍膜,可以在工件上鍍覆Cr、CrN X 等鍍層,代替水溶液電鍍用於旋轉軸和其它運動部件。...
5 2 4濺射薄膜的特點及濺射方式5 2 5直流濺射鍍膜5 2 6磁控濺射鍍膜5 2 7射頻濺射鍍膜5 2 8反應濺射鍍膜5 2 9中頻濺射與脈衝濺射鍍膜...
磁控濺射是由二極濺射基礎上發展而來,在靶材表面建立與電場正交磁場,解決了二極濺射沉積速率低,電漿離化率低等問題,成為鍍膜工業主要方法之一。磁控濺射與其它...
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射...
目前鍍膜玻璃的製造方法有很多,主要有真空磁控濺射法和溶膠凝膠法等。真空磁控濺射法製造鍍膜玻璃,是利用磁控濺射技術進行鍍膜,可以設計製造出多層複雜膜系,並可在...
磁控濺射是20世紀70年代迅速發展起來的新型我射技術。其鍍膜速率與二極濺射相比提高了一個數量級。1974 年Chapin 發明了適於工業套用的平面磁控濺射靶,對磁控濺射進...
真空鍍膜設備,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和...
納峰真空鍍膜(上海)有限公司成立於2002年9月,是隸屬於新加坡納峰科技私人有限...“過濾陰極真空電弧法”,是通過離子束刻蝕預清洗、FCVA沉積、磁控濺射沉積、在...
五項專利。《高能級磁控濺射離子鍍技術》;《電漿型弧源一磁控濺射鍍膜機》;《黃銅件真空離子鍍替代電鍍方法》;《用雙向離子鍍磁控濺射代替電鍍設備的爐體》;《...
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,...