《平面磁控濺射靶材 光學薄膜用矽靶(YS/T 719-2009)》由全國有色金屬標準化技術委員會提出並歸口。本標準負責起草單位：利達光電股份有限公司。本標準主要起草人：李智超、楊太禮、付勇、段玉玲、張向東、趙倫。本標準適用於平面磁控濺射光學薄膜用矽靶材。
基本介紹
- 書名：平面磁控濺射靶材 光學薄膜用矽靶
- 作者：中華人民共和國工業和信息化部
- 出版日期：2010年3月1日
- 語種：簡體中文
- ISBN：155066220486
- 外文名：Flat Magneting Sputtering Target-Silicon Target for Optical Coating
- 出版社：中國標準出版社
- 頁數：2頁
- 開本：16
- 品牌：北京勁松建達科技圖書有限公司
《平面磁控濺射靶材 光學薄膜用矽靶(YS/T 719-2009)》由中國標準出版社出版。
