雙室超高真空多功能磁控濺射設備

雙室超高真空多功能磁控濺射設備是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器，於2012年12月24日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙室超高真空多功能磁控濺射設備
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2012年12月24日
• 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器 > 旋光分析儀

技術指標

10-5Pa。

主要功能

物理沉積薄膜。