高真空多功能磁控濺射電子束鍍膜系統

高真空多功能磁控濺射電子束鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2010年6月23日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空多功能磁控濺射電子束鍍膜系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2010年6月23日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

真空度：6.7×10－5Pa 加熱溫度：室溫~800oC 濺射功率：500W×3。

主要功能

真空鍍膜。