集成鍍膜系統

集成鍍膜系統是一種用於數學領域的分析儀器，於2014年12月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：集成鍍膜系統
• 產地：法國
• 學科領域：數學
• 啟用日期：2014年12月01日
• 所屬類別：分析儀器

技術指標

1.系統配有四個腔室，分別為UHV蒸發室、UHV處理室、UHV濺射室和load lock，用於電子束蒸發沉積Ti, Au, Al, Al2O3等薄膜材料以及磁控濺射Nb,NbN薄膜材料。2.電子束蒸發源：4 x15cc ，2-10KV可調。3.濺射室配有兩個2英寸磁控靶源分別對應Nb、NbTi，每個靶源有獨立的擋板。

主要功能

該系統配有蒸發室、清潔氧化處理腔室、濺射室、Load lock，用於製備各種高純金屬、氧化物以及超導薄膜，如Ti, Au, Al, Nb, NbN, Al2O3等。該設備電子束蒸發鍍膜腔和磁控濺射鍍膜腔相互獨立，集成了兩套系統的優點，而又避免了電子束蒸發和磁控濺射鍍膜的交叉污染。鍍膜室內可以注射氧氣，氬氣來實現清潔和氧化過程。整個製備過程由計算機控制，製備過程可自由編程。