熱蒸發磁控濺射鍍膜機

熱蒸發磁控濺射鍍膜機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2004年01月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：熱蒸發磁控濺射鍍膜機
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2004年01月01日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

兩腔（φ500mmX480mm,φ500mmX500mm)。工作真空7x10^(-4)Pa,整機阻抗1MΩ/500V.P.C. 用於有機/無機薄膜製備，膜厚可以控制在nm量機上。極限真空可達10-5 Pa，工作真空度為3-5 10-4 Pa，六對熱蒸鍍電極，可以同時蒸鍍四種材料。兩個磁控濺射靶，直流靶和射頻靶。一電子槍靶。

主要功能

兩腔（φ500mmX480mm,φ500mmX500mm)。工作真空7x10^(-4)Pa,整機阻抗1MΩ/500V.P.C. 用於有機/無機薄膜製備，膜厚可以控制在nm量機上。極限真空可達10-5 Pa，工作真空度為3-5 10-4 Pa，六對熱蒸鍍電極，可以同時蒸鍍四種材料。兩個磁控濺射靶，直流靶和射頻靶。一電子槍靶。