電子束蒸發鍍膜設備

電子束蒸發鍍膜設備是一種用於數學領域的分析儀器，於2017年3月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：電子束蒸發鍍膜設備
• 產地：中國
• 學科領域：數學
• 啟用日期：2017年3月1日
• 所屬類別：分析儀器

技術指標

真空室極限真空度≤8E-5Pa，從大氣抽至1E-3Pa時間≤40min，漏率≤2E-10AtmCC/Sec。電子槍：最大加速功率10KW，最大電流1A；偏轉角270度。電子束位置調節範圍至少覆蓋+20mm到-20mm，電子束掃描範圍至少覆蓋+20mm到-20mm，電子束X方向掃描頻率50Hz，Y方向掃描頻率500Hz。高壓電源：發射電流0~1A，穩定性±2%；最大輸出功率10kW，燈絲電流最大50A。熱蒸發直流電源的最高加熱溫度1800℃。磁控腔室基片最高加熱溫度600度，蒸發腔室最高加熱溫度400度。磁控腔室中頻電源的最大功率10kW。偏壓電源的最高功率30kw。三路氣體;Ar、N2、O2，最大流量為100sccm。

主要功能

電子束蒸發設備系統具有兩個真空腔室——磁控濺射腔室和蒸發腔室。磁控濺射腔室中配置了雙陰極輸出中頻電源（10KW），連線兩個孿生磁控靶，磁控靶為英國真科的閉合非平衡磁控靶。同時配置了30kW的偏壓電源，具有直流和脈衝兩種偏壓形式，最高電壓為1000V，最高電流為75A，頻率為1-30kHz。占空比為5~95%。磁控腔室能夠濺射金屬、反應濺射氧化物、氮化物等。蒸發腔室配置了電子束蒸發和熱阻蒸發兩種工藝，可以蒸鍍各種金屬、氧化物材料。此外，該設備配置了晶振膜厚儀，可以在鍍膜的過程中檢測薄膜的厚度。