電子束蒸鍍(Electron Beam Evaporation)是物理氣相沉積的一種。與傳統蒸鍍方式不同,電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現利用高能電子轟擊坩堝內靶材,使之融化進而沉積在基片上。電子束蒸鍍可以鍍出高純度高精度的薄膜。
基本介紹
- 中文名:電子束蒸鍍
- 外文名:Electron Beam Evaporation
- 分類:物理氣相沉積(PVD)
- 領域:工程技術
電子束蒸鍍(Electron Beam Evaporation)是物理氣相沉積的一種。與傳統蒸鍍方式不同,電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現利用高能電子轟擊坩堝內靶材,使之融化進而沉積在基片上。電子束蒸鍍可以鍍出高純度高精度的薄膜。
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